헤지나루
공모주
소개
반도체
소재
노광소재
포토레지스트, BARC, SOC 하드마스크, EBR 등 노광 공정용 소재
5곳 · 시총 순 · 셀 내 시총비율
종목
셀 내 비중
시총
1
동진쎄미켐
포토레지스트 (ArF Immersion, ArF Dry, KrF, i-Line), BARC, SOC 하드마스크
59%
2.0조
2
이엔에프테크놀로지
포토레지스트용 모노머·폴리머·광산발생제 등 핵심원료를 반도체 제조사에 공급. ArF 포토레지스트 원료 국내 핵심 공급업체.
17%
5737억
3
켐트로닉스
포토레지스트용 PGMEA를 99.999% 초고순도로 자체 합성·개발·생산하며, EUV 노광 공정의 핵심 소재.
11%
3664억
4
삼양엔씨켐
포토레지스트 핵심 소재인 고분자(Polymer)·광산발산제(PAG)를 생산하여 포토레지스트 제조사에 공급.
8%
2664억
5
와이씨켐
ArF, EUV Photoresist 및 BARC, SOC 등 노광공정용 소재 개발·공급이 회사 주력 사업.
6%
1957억