헤지나루
공모주
반도체
소재
노광소재
포토레지스트, BARC, SOC 하드마스크, EBR 등 노광 공정용 소재
4곳 · 시총 순 · 셀 내 시총비율
종목
셀 내 비중
시총
1
동진쎄미켐
포토레지스트 (ArF Immersion, ArF Dry, KrF, i-Line), BARC, SOC 하드마스크
63%
2.0조
2
이엔에프테크놀로지
포토레지스트용 모노머·폴리머·광산발생제 등 핵심원료를 반도체 제조사에 공급. ArF 포토레지스트 원료 국내 핵심 공급업체.
19%
5929억
3
켐트로닉스
포토레지스트용 PGMEA를 99.999% 초고순도로 자체 합성·개발·생산하며, EUV 노광 공정의 핵심 소재.
10%
3270억
4
삼양엔씨켐
포토레지스트 핵심 소재인 고분자(Polymer)·광산발산제(PAG)를 생산하여 포토레지스트 제조사에 공급.
8%
2666억